首页 > 穿梭在历史大事件中的将军 > 158 日韩半导体战争
第三，工艺、设备等出产供应链的不兼容。尔必达建立后，没有及时将关头工艺的供应链停止整合，比如洗濯液和洗濯设备，NEC、日立、三菱竟然都是分歧的，在关头技术研发上，乃至呈现了NEC研发中间开辟的新技术，底子没法完整利用于日立的出产体系中，这使得NEC研发中间开辟新技术后，需求先颠末日立研发中间的调剂和考证，才气够利用于本来日立的出产工艺体系中。
米国人开端在微措置器CPU、逻辑、摹拟芯片等发力并稳固环球核心合作力，使得米国人占有了环球半导体产业产值的半壁江山。
尔必达与天朝台湾省的力晶半导体建立联盟以对抗韩国人。
米国人充分分享第2、三次环球半导体硅含量晋升周期中PC电脑、条记本、手机等快速提高的市场红利。
一共经历将近三十年。
日本人官产学三位一体，调和生长，通力合作，同心合力，针对高难度、高风险的研讨项目，VLSI研讨所构造多个尝试室以会战的体例，变更各单位的主动性，阐扬良性合作，各企业之间技术共享合作，共同进步DRAM量产胜利率。
本身就算拿到100亿美金全款，全数投入半导体行业，在这类国度级的合作面前，只是微不敷道。
但是，微不敷道也能够进献本身的一份力量。
第三，举国体制，冲破财产链高低流，特别是半导体关头出产制造设备。70年代日本固然能够出产DRAM内存芯片。
1985年开端日本经济进入泡沫化，房地产就像打了鸡血，全民进入炒房期间。1985年日本人砍掉近40%的设备更新投资和科技红利投入，1986-1987年日本人有效研发投入从4780亿日元降落到只要2650亿日元，降落幅度达到80%，这就给了韩国人反超的机遇。
直到明天，日本人很多行动为后代很多科技掉队国度实现科技冲破，供应很好的鉴戒意义。
第二，官产学三位一体，制定国度项目停止重点攻关。
期间申请的合用新型专利和贸易专利，别离达到1210件和347件。
尔必达的失利，有外因，也有内部身分。尔必达自建立起，有三大内伤，埋下今后毁灭的因子：
2012年7月，镁光科技以25亿美金收买尔必达。
由日本当局出资320亿日元，日立、NEC、富士通、三菱、东芝五至公司结合筹资400亿日元。
第三研讨室，东芝公司，卖力EB扫描设备与制版复印设备，室长：武石喜幸。
1975年日本人以通产省为中间的“来世代电子计算机用VLSI研讨开辟打算”构思，设立了官民共同参与的“超大范围集成电路(VLSI)研讨开辟政策委员会”。
第二研讨室，富士通公司，卖力研制可变尺寸矩形电子束扫描设备，室长：中村正。
在一年时候内，米国度用电脑出货量从4.8万台，暴增到20万台，家庭电脑的高速增加，对存储器芯片产生了大量需求，日本人在DRAM核心技术的科技红利抢先，这给日本DRAM厂商带来了抢占米国市场的机遇。
就像武侠小说中，再深厚的内功，也需求根骨奇佳的门徒呀。
第四研讨室，电气综合研讨所，对硅晶体质料停止研讨，室长：饭塚隆。
1960年日本人胜利研制了第一块晶体管集成电路；1963年研制MOS型晶体管。特别是1962年米国人对日本人开放当时环球半导体产业最早进的平面制造工艺技术，使得日本人几近一夜之间就获得集成电路的出产制造技术。
米国三家最好DRAM公司的芯片分歧格率，比日本三家DRAM公司的芯片分歧格率，整整高出6倍。