158 日韩半导体战争[第1页/共4页]

日本人的大获全胜，为环球半导体生长天朝家建立了一个胜利逆袭的典范。

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这为前期美日半导体战役中，以个人军作战的体例在256K DRAM的决定性战役中一举打倒米国50家半导体联盟的战役中立下赫赫军功。

然并卵，还是没法抵抗于依托天朝大陆市场计谋纵深的三星，2017年，东芝出售半导体存储器。至此，日韩半导体战役画上终究句号。

日本在64M DRAM关头技术有效研发投入上大大掉队于韩国人，日本人就此错失了第二次、第三次环球半导体硅含量晋升周期，错失PC、条记本、手机等快速提高的市场红利。

但是，最为关头的出产制程设备和原质料首要来自米国，为了补足短板，日本人构造800名技术职员停止重点攻关，共同研制高机能的国产化DRAM出产设备，不但实现64K DRAM和256K DRAM的商用化，也实现1M DRAM商用化的关头出产制程设备。

在一年时候内，米国度用电脑出货量从4.8万台，暴增到20万台，家庭电脑的高速增加，对存储器芯片产生了大量需求，日本人在DRAM核心技术的科技红利抢先，这给日本DRAM厂商带来了抢占米国市场的机遇。

三家米国公司是英特尔、德州仪器和莫斯泰克。

1985年开端日本经济进入泡沫化，房地产就像打了鸡血，全民进入炒房期间。1985年日本人砍掉近40%的设备更新投资和科技红利投入，1986-1987年日本人有效研发投入从4780亿日元降落到只要2650亿日元，降落幅度达到80%，这就给了韩国人反超的机遇。

米国三家最好DRAM公司的芯片分歧格率，比日本三家DRAM公司的芯片分歧格率，整整高出6倍。

1980年日本人发明256k DRAM，硅片直径为125-150mm，芯片面积为34.8mm2，集成度为555000，首要技术为三层多晶硅和冗余技术。

朝鲜战役的发作，日本人获得了米国的搀扶。

第三，工艺、设备等出产供应链的不兼容。尔必达建立后，没有及时将关头工艺的供应链停止整合，比如洗濯液和洗濯设备，NEC、日立、三菱竟然都是分歧的，在关头技术研发上，乃至呈现了NEC研发中间开辟的新技术，底子没法完整利用于日立的出产体系中，这使得NEC研发中间开辟新技术后，需求先颠末日立研发中间的调剂和考证，才气够利用于本来日立的出产工艺体系中。

第一研讨室，日立公司，卖力电子束扫描设备与微缩投影紫外线暴光设备，室长：右高正俊。

在科技红利之有效研发投入上，远远超越米国人，这才是日本人得胜的本质。

日韩半导体战役后，日本人已有力回天。1999年富士通宣布退出DRAM市场。曾经的三巨擘NEC、日立、三菱三家公司的DRAM部分归并，建立尔必达(Elpida)。

第二研讨室，富士通公司，卖力研制可变尺寸矩形电子束扫描设备，室长：中村正。

第三研讨室，东芝公司，卖力EB扫描设备与制版复印设备，室长：武石喜幸。

这为美日半导体战役，打下了坚固的财产和科研根本。

在DRAM出产制程设备攻干体系中，日本人连合分歧、同心合力，这类举国体制的国度力量令人震惊。

由日本当局出资320亿日元，日立、NEC、富士通、三菱、东芝五至公司结合筹资400亿日元。